科創南方8月7日報道，近日，深圳市龍圖光(guang)罩股(gu)份有限公司(si)在上交所科創板掛(gua)牌(pai)上市。
龍圖光罩發行價為18.5元，是科創板定價新(xin)規下首家(jia)發行定價環節適用剔除3%最高(gao)報價比(bi)例的科創板個股。
此次公開發行3337.5萬股，募資總額為6.17億元。昨日的首日開盤價為41元(yuan)，較發行價上漲了121.6%;首日收盤價為34.90元，首日市值達46.59億元。
今日，該公司收盤價為31.30元，市值為41.8億元。
成立于2010年的龍圖光罩，主營業務為半導體掩模版的研發、生產和銷售，是國內稀缺的獨立第三方(fang)半(ban)導(dao)體掩(yan)模版廠商，掌握(wo)了130nm 及以上制程(cheng)節點半導體掩模版生產制造(zao)的關鍵技(ji)術。
半(ban)導體(ti)掩(yan)膜(mo)版是什(shen)么？
掩(yan)膜(mo)版(ban)(ban)，也(ye)被稱(cheng)為是光(guang)(guang)罩、光(guang)(guang)掩(yan)版(ban)(ban)，是半導體制(zhi)造過程中不可(ke)或缺(que)的圖形模(mo)版(ban)(ban)。就像傳統相機的“底(di)片”一樣(yang)，掩(yan)膜(mo)版(ban)(ban)承擔著把(ba)設計圖案轉(zhuan)化(hua)成實體產品的關鍵步驟。
掩模版是上(shang)游(you)芯片設(she)(she)計公司(si)與下(xia)游(you)晶圓制造廠商的(de)中間橋梁。掩膜版上(shang)有預先設(she)(she)計好的(de)電(dian)路(lu)圖(tu)案，通過一系列精細(xi)的(de)曝光工(gong)藝，這些電(dian)路(lu)圖(tu)案就(jiu)會被“投影”到下(xia)游(you)制程(cheng)的(de)材料上(shang)，從而實現產(chan)品的(de)批量化(hua)生產(chan)。
很長一段時間來，美日廠商在全球第三方半導體掩膜版市場占據壟斷地位。根據SEMI 數據，在全球半導體掩模版市場，晶圓廠自行配套的掩模版工廠規模占比 65%，獨立第三方掩模廠商規模占比 35%，其中獨立第三方半導體掩模版市場主要被美國 Photronics、日本 Toppan 和日本 DNP 三家公司(si)所(suo)控制，三者共(gong)占八成以上的市場規模。
龍圖光罩正是國內稀缺的獨立第三方半導體掩模版生產商，而龍圖光罩的成功上市，可以說是讓半導體掩膜版的“國(guo)產替(ti)代”又向前邁進了一步，該公司也是目前A股市場上唯一(yi)一(yi)家半(ban)導體掩膜版收入(ru)占(zhan)比超9成的公司。
隨著下游新興產業如新能源汽車、光伏發電、工業自動化等的發展，國內半導體掩膜版需求近年來大幅增加，這也使得龍圖光罩在2021年至2023年，營業收入年均復合增長率達到38.56%，其凈利潤的年均復合增長率更是超過了40%。
回顧龍圖光罩的上市歷程，從2023年5月受理材料開始，其上市審核過程大概用了1年3個月，相比創業板、主板或科創板的(de)絕大多數(shu)企(qi)業耗時，已是非常高效。
通過本次上市，龍圖光罩將持續加大技術創新投入，本次擬募集資金6.63億元，將直接用于電子束(shu)光刻(ke)機等一系列高端設備購置(zhi)及(ji)產線(xian)建設，推動90nm、65nm及(ji)更高制程(cheng)節點半導(dao)體掩模版(ban)的(de)技術突破，補強產業發(fa)展短板，提升自主可控(kong)水平。
一、業績情況亮眼，營收年均復合增長率近40%
據招股書顯示，龍圖光罩主營業務為半導體掩模版(ban)的研發、生(sheng)產和銷售。
2021年—2023年，龍圖光罩的營業收入分別為1.13億(yi)元(yuan)(yuan)、1.61億(yi)元(yuan)(yuan)和2.18億(yi)元(yuan)(yuan)，年均復合增長率為38.56%。而半導體掩模版則是龍圖光罩的主要收入來源，報告期內來自半導體掩模版的收入分別為8672.51萬元(yuan)、1.38億(yi)元(yuan)和1.98億(yi)元(yuan)，分別占主營業務收入的76.28%、85.44%和91.1３%。
盡管龍圖光罩2023年營收規模為2.18億，但毛利率保持60%左右，凈利率接近40%。
在研發投入方面，龍圖光罩三年的研發支出分別為931.80萬(wan)元、1533.31萬(wan)元和2017.59萬(wan)元，占營業收入的比例分別為8.20%、9.49%和(he)9.24%。同時，公司研發費用的年均復合增長率達到了47.15%，與同行業上(shang)市公司相(xiang)比，其(qi)研(yan)發(fa)費用率略高。研(yan)發(fa)中心的人才(cai)隊伍也從2021年末的26人增長至 2023 年末的42人。
在銷售費用方面，費用率呈現一定的下降趨勢，2021年至2023年占比分別為3.92%、3.07%、2.87%，這與公司重點開(kai)發和加深與(yu)下(xia)游半導體行業大客(ke)戶的合(he)作有關，大(da)客戶的(de)收入規(gui)模和占比提(ti)升，帶來(lai)了收入集中度的(de)提(ti)升，進而銷售費用率下降。
2021年到2023年，龍圖光罩的負債分別為7009.67萬(wan)元、4916.19萬(wan)元、7834.29萬(wan)元，資產負債率分別為41.95%、9.57%和12.40%。2022 年度，公司資產負債率下降幅度較大，主要與該公司進行股權融資(zi)，引入(ru)外部股東有關。總的來說(shuo)，公司資產(chan)負債率(lv)、流動(dong)比(bi)率(lv)、速(su)動(dong)比(bi)率(lv)均(jun)優于同行業可比(bi)公司，公司償債能力良好。
二 以半導體掩膜版為核心，持續提升工藝節點
龍圖光罩緊跟國內特色工藝半導體發展路線，不斷進行技術攻關和產品迭代，半導體掩模版對應下游半導體產品的工藝節點從 1μm 逐步提升至 130nm，產品廣泛應用于功(gong)率(lv)半導(dao)體、MEMS 傳感器(qi)、IC 封(feng)裝、模擬 IC 等(deng)特色工藝(yi)半導體領域，終端應用涵蓋新能源、光(guang)伏發電(dian)、汽車電(dian)子、工業控制、無線通信、物聯網、消(xiao)費電(dian)子等(deng)場景(jing)。
成(cheng)立十年以(yi)(yi)來，龍圖光罩主要產品的發展(zhan)演變情況可以(yi)(yi)分為(wei)以(yi)(yi)下(xia)三(san)個階段：
根據基板材質的不同，龍圖光照的掩膜版產品可以分為兩類，石英掩(yan)膜版和蘇打掩膜(mo)版。從2021年到2023年，石英掩膜版收入分別為6038.85萬元、1.12億元、1.72億元，占比從53.12%、69.59%上升到78.79%；蘇打掩膜版的收入分別為5330.41萬元(yuan)、4912.5萬元(yuan)6、4630.21萬元(yuan)，占比從46.88%、30.41%下降至21.21%。
以下游應用領域來劃分，龍圖光罩的主營業務收入則可以分為三大方面，分別是半導體掩膜(mo)版(ban)、光(guang)學器(qi)件(jian)及其他領域。
三年里，半導體掩膜版帶來的營業收入分別為8672.51萬元、1.38億元、1.99億元，占比從76.28%逐漸攀升至85.44%、91.13%。
三、形成三大核心技術體系，打造專有技術壁壘
半導體掩模版行業高度依賴專有技術，具有鮮明的“Know-How” 特點（指(zhi)根據多年經驗與實(shi)踐(jian)得來的知識結(jie)晶，一般在企業內部沒有(you)專利保(bao)護(hu)，或者和專利相輔相成，表現為技術訣竅、專業知識、獨家配(pei)方，屬于無(wu)形(xing)資產的商業秘密）。
目前，龍圖光罩形成了了涵蓋 CAM 版圖處(chu)理、光刻及檢(jian)測的(de)三大(da)核心(xin)技術體系，解決了高精(jing)(jing)度掩模版制作(zuo)過程(cheng)中對于精(jing)(jing)度和缺陷控制的(de)難(nan)題，在制程(cheng)能力、精(jing)(jing)度控制及缺陷控制方面達(da)到國內(nei)較為領先的(de)水(shui)平。
為(wei)了(le)解決下(xia)晶圓曝光(guang)存在圖(tu)形(xing)失(shi)真(zhen)現象，提高晶圓曝光(guang)的分辨率與精度，就需要要在CAM 環節對(dui)掩(yan)模版(ban)圖(tu)形(xing)進行(xing)二次加(jia)工(gong)（OPC），通過圖(tu)形(xing)補償來抵消圖(tu)形(xing)偏差。
龍圖光罩通過大量實驗與實踐數據，建立了自身特有的基于規則的OPC數據庫，能(neng)夠對各種(zhong)設計(ji)版(ban)圖進行 快速、準確的自(zi)動化(hua)OPC補償處理，實現了制程與精(jing)度的顯著提升(sheng)。
在光刻環節，龍圖光罩司自研了一套高精度制程管控系統來滿足光刻機等(deng)精(jing)密設備(bei)的苛刻環境需求，通(tong)過對(dui)溫度(du)、濕度(du)、氣流(liu)擾動、微振動等(deng)制程參數進(jin)行實時監(jian)控與調(diao)節，有效(xiao)地提高(gao)了掩模產(chan)品(pin)的位置(zhi)精(jing)度(du)、套刻精(jing)度(du)，降低了產(chan)品(pin)的缺陷水(shui)平。
同時，該公司根據自研軟件算法及多年的掩模光刻經驗，通過精確控制曝光光源的輸出功率、曝光時間、聚焦深度、束斑形狀等參數，對曝光環節進行反向補償與動態優化，實現光刻機能量輸出的精細(xi)化控制，顯(xian)著提升產品CD精(jing)度。
掩模版上的各類缺陷通常極為微觀，在檢測環節，龍圖光罩能夠精準檢測出掩模版上納(na)米級缺陷，并自研了一套缺陷修(xiu)補與異(yi)物去除技(ji)術(shu)，利用激光物理作用與蝕刻液(ye)化學反(fan)應相結合的方式，有效地消除了激光修(xiu)(xiu)復(fu)(fu)后(hou)所(suo)產生修(xiu)(xiu)復(fu)(fu)印痕(hen)，避免 了因缺陷修(xiu)(xiu)復(fu)(fu)所(suo)帶來(lai)的二(er)次損(sun)傷(shang)。
截止2023年底，龍圖光照已取得43項專利，其中發明專利16項，實用新型專利27項。另外，還有36項計算機軟件(jian)著作權。
龍圖光罩的多項專有技術其實并不易于以專利(li)形式保護(hu)，不過(guo)這些技(ji)術(shu)專(zhuan)有技(ji)術(shu)形成了它享有的(de)技(ji)術(shu)紅利，同時也構成了半導體(ti)掩(yan)模(mo)版較高的(de)行業壁壘。
四、較強上下游匹配能力，客戶集中度穩定
獨立的(de)第三(san)方半(ban)(ban)導(dao)體(ti)掩(yan)膜版(ban)生產商，需要根據(ju)上游(you)芯(xin)片設(she)計(ji)公司(si)提供的(de)設(she)計(ji)版(ban)圖，及(ji)下游(you)晶(jing)圓制造廠商提供的(de)制作工藝要求，設(she)計(ji)并制作出同時滿足芯(xin)片設(she)計(ji)公司(si)和晶(jing)圓制造廠要求的(de)、用于(yu)晶(jing)圓加工的(de)半(ban)(ban)導(dao)體(ti)掩(yan)模版(ban)。
在不斷追逐行業技術進步的過程中，龍圖光罩不僅形成了大量的專有技術，也具備了較強的上(shang)下游匹(pi)配能力。
龍圖光罩上游原材料主要是石英基(ji)板、蘇打(da)基(ji)板以及光學(xue)膜，供應商主要是環球國際、璩(qu)玖科(ke)技、韶光芯材、微(wei)擇科(ke)技、S&STECHCorp等企業。
龍圖光罩的客戶，一方面涵蓋芯片制造廠(chang)(chang)商(shang)、MEMS 傳(chuan)感 器廠(chang)(chang)商(shang)、先進封裝廠(chang)(chang)商(shang)、芯片設(she)計公司，如中芯集成、士(shi)蘭(lan)微(wei)、積塔半導體(ti)、華虹半導體(ti)、新唐(tang)科技、比亞(ya)迪半導體(ti)、立昂微(wei)、燕東微(wei)、粵芯半導體(ti)、長飛(fei)先進、揚杰科技、英集芯、芯朋(peng)微(wei)、斯達(da)半導體(ti)等。
另一方面，也涉及進行基礎技術研究的知名高(gao)校及科研院所(suo)，如清華大(da)(da)學(xue)、上海交通大(da)(da)學(xue)、復旦大(da)(da)學(xue)、浙江大(da)(da)學(xue)等。
2021年到2023年，龍圖(tu)光罩前(qian)五大(da)客(ke)(ke)戶(hu)銷(xiao)售集中度較為(wei)穩(wen)定，均為(wei)工藝半導體行(xing)業內(nei)的大(da)客(ke)(ke)戶(hu)。
五、三人為實際控制人，無控股股東
柯漢奇、葉小(xiao)龍、張(zhang)道谷(gu)分別直接持有龍圖光罩?26.33%、26.33%、19.56%股權，柯漢奇通過深圳市奇龍谷投資合伙企業（有限合伙）控制公司3.76%股權，三人合計控制龍圖光罩75.99%股權，上述三方為公司的共同實際控制人。公司無控股股東。
另外，南海成長、惠友豪嘉、華虹虹芯、瑞(rui)揚合伙、士(shi)蘭控股(gu)、銀杏谷(gu)壹號為(wei)外部機構股(gu)東。
龍(long)圖光罩董事(shi)會由5名(ming)成(cheng)員組成(cheng)，分別是董事(shi)長(chang)柯漢奇(qi)、董事(shi)兼總經理葉小龍(long)、董事(shi)張道(dao)谷，以及兩名(ming)獨立董事(shi)袁振超、安豐偉。
柯(ke)漢奇是60后，固體(ti)物理(li)(li)專(zhuan)業(ye)(ye)研究生(sheng)。他(ta)曾在(zai)深(shen)圳市先科企業(ye)(ye)集團(tuan)當過工程師、部(bu)門經理(li)(li)，還在(zai)中國南玻集團(tuan)股份有限公(gong)司擔任事(shi)業(ye)(ye)部(bu)總裁、集團(tuan)副總裁，2018年(nian)2月至今柯(ke)漢奇任職于龍圖光罩(zhao)。
葉小(xiao)龍(long)，環(huan)境(jing)設計專業本科，他曾在深圳清(qing)溢光電股(gu)份有限公司(si)從市場(chang)部(bu)經理擔任副總經理，2010年4月(yue)至今在龍(long)圖光罩任職。
張道谷，機械制造工(gong)藝及設備專(zhuan)業(ye)本科(ke)。他(ta)曾擔任(ren)湖北(bei)省黃岡(gang)鋁業(ye)公司的(de)副廠長，還當過(guo)深圳美科(ke)電(dian)腦設計有限公司總經理，2018 年(nian)2月至今在龍圖光罩任(ren)職。
結語：下游創新推動半導體需求增長，國產替代步伐不斷加快
近年來，隨著新(xin)(xin)能源汽車(che)、光伏 自動駕(jia)駛、新(xin)(xin)一(yi)代移動通信、人工(gong)智(zhi)能等新(xin)(xin)技術的不斷成熟，終端產品(pin)更新(xin)(xin)迭(die)代速度加快，推動了(le)半導體(ti)行業的迅速發展，也為半導體(ti)掩模版創造(zao)了(le)大量的市場需求。
曾經國(guo)外(wai)廠商(shang)(shang)在半(ban)(ban)導(dao)體掩膜版(ban)(ban)上占據壟斷地位(wei)，而隨著龍圖光罩這樣(yang)的(de)獨立第三(san)方半(ban)(ban)導(dao)體掩模(mo)版(ban)(ban)廠商(shang)(shang)崛起，也將有(you)望加(jia)快國(guo)產替代的(de)步(bu)伐，填補我(wo)國(guo)高端半(ban)(ban)導(dao)體掩模(mo)版(ban)(ban)領(ling)域(yu)的(de)空白。
